产品简介：GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪，可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜，样品直径可达50mm，镀膜厚度可达300，特别适用于SEM样品表面的镀膜

产品简介：GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极（DC）直流溅射原理设计而成的、可靠、经济的镀膜设备

产品简介：VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

产品简介：VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成

产品简介：VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程