产品详细介绍：可适用于高真空条件下对粉体材料的表面包覆镀膜实验(更新日期2019.1.11）产品型号振动样品台产品特点1、振动样品台安装在真空腔体底部2、粉末放置于样品台上

产品简介：微型PECVD系统采用Ø3"×16"的石英腔体，内部设有加热圈对样品进行加热，温度可以达到400℃，且采用程序化控温，系统还配有2通道混气装置和双旋机械泵，整套系统安放于移动架上，便于实验操作

产品简介：钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成

产品简介：VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

产品简介：VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

产品简介：OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜（CSS）炉是一款快速蒸发管式炉，专门用于PVD或CSS法制作薄膜