TFMS-LD反射光谱薄膜测厚仪

产品型号

TFMS-LD 反射光谱薄膜测厚仪

测量膜厚范围

15nm-50um

光谱波长

400 nm - 1100 nm

主要测量透明

或半透明薄膜

厚度

氧化物

氮化物

光刻胶

半导体（硅，单晶硅，多晶硅等）

半导体化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS 等）

硬涂层（碳化硅，类金刚石炭）

聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)

金属膜

特点

测量和数据分析同时进行，可测量单层膜，多层膜，无基底和非均匀膜

包含了 500 多种材料的光学常数，新材料参数也可很容易地添加，支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等

体积较小，方便摆放和操作

可测量薄膜厚度，材料光学常数和表面粗糙度

使用电脑操作，界面中点击，即可进行测量和分析

精度

0.01nm 或 0.01%

准确度

0.2%或 1nm

稳定性

0.02nm 或 0.02%

光斑尺寸

标准 3mm,可以小至 3um

要求样品大小

大于 1mm

分光仪/检测器

400 - 1100 nm 波长范围

光谱分辨率: < 1 nm

电源 100 -250 VAC, 50/60 Hz 20W

光源

5W 的钨卤素灯

色温： 2800K

使用寿命:1000 小时

反射探针

光学纤维探针， 400um 纤维芯

配有分光仪和光源支架

载样台

测量时用于放置测量的样品

通讯接口

USB 接口，方便与电脑对接

TFCompanion

软件

强大的数据库包含两 500 多种材料的光学常数（n：折射率， K：消失系数）

误差分析和模拟系统，保证在不同环境下对样品测量的准确性

可分析简单和复杂的膜系

设备尺寸

200x250x100mm

重量

4.5kg