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产品简介： SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化 Mapping绘制化测量光谱椭偏仪，采用行业前沿创新技术，配置全自动 Mapping测量模块，通过椭偏参数、透射/反射率等参数的测量，快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED，LED，光伏，集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
| 产品型号 | SE-Mapping 光谱椭偏仪 |
| 主要特点 | 1、全基片椭偏绘制化测量解决方案
2、支持产品设计以及功能模块定制化，一键绘制测量
3、配置 Mapping 模块，全基片自定义多点定位测量能力
4、丰富的数据库和几何结构模型库，保证强大数据分析能力
5、采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
6、高精度旋转补偿器调制、 PCRSA 配置， 实现Psi/Delta光谱数据高速采集 7、具备全基片自定义多点自动定位测量能力，提供全面膜厚检测分析报告 |
| 1、自动化程度：固定角+  mapping2、应用定位：检測型
3、基本功能： Psi/Delta、N/C/S、R 等光谱
4、分析光谱： 380-1000nm(可扩至 193-2500nm)
5、单次测量时间： 0.5-5s
6、重复性测量精度： 0.01nm
7、光斑大小： 大光斑 2-3mm,微光斑200um
8、入射角调节方式：固定角
9、入射角范围： 65°
10、找焦方式：手动找焦
11、Mapping1 程： 300x300mm
12、支持样件尺寸： 至 300mm | ||
| 可选配件 | 3 | 真空泵 |
| 4 | 透射吸附组件 | |
当前位置：
电子邮箱：
公司地址：北京市丰台区大瓦窑中路305号