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产品简介: GSL-1100X-SPC-16-3 等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理(直流二极溅射镀膜 是指在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应, 使得靶材原子或分子从固体表面射出, 在基片上沉 积形成薄膜的过程。属于物理 气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。 )设计而成的简单、可靠、经济的 镀膜设备。GSL-1100X-SPC-16-3 等离子三靶溅射仪特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台 可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此, 适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电 极的制作。该设备体积小,节省实验室空间,操作简单,尤其适合实验室使用。
产品名称 | GSL-1100X-SPC-16-3 等离子三靶溅射仪 |
产品型号 | GSL-1100X-SPC-16-3 |
安装条件 | 本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃, 湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注氩气(纯度 99.99%以上),需自备氩气气瓶(带减压阀) 4、工作台: 尺寸 600mm×600mm×700mm ,承重 50kg 以上 5、通风装置:不需要 |
主要特点 | 1、设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。 2、通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电 离气体,以获得好的镀膜效果。 |
3、钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。 |
4、陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。 5、根据电场中气体电离特性,采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀 纯净。 | |||
6 、已通过 CE 认证。 | |||
技术参数 | 1、靶直径: Ø45mm 2、真空室: Ø160mm×120mm 3、真空度:≤4×10-2mbar 4、靶位: 3 个 | ||
5 、max 电流: 50mA 6、可设定极间: 900s 7、微型真空气阀: 连接 Ø3mm 软管 8、极限电压: 1600V DC 9、机械泵: 2L/s | |||
标准配件 | 1 | 金靶材 | 1 个 |
2 | 铜靶材 | 1 个 | |
3 | 铝靶材 | 1 个 | |
4 | 进气针阀 | 1 个 | |
5 | 保险丝 | 2 个 | |
可选配件 | 金、铟、银、铂等各种靶材 |