小型粉末PVD包覆系统（DC磁控溅射-振动样品台）VTC-16PW

产品型号

小型粉末 PVD 包覆系统 VTC-16PW

产品特点

1、可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚， 达到粉体表面均匀包覆

2、设备小巧可在手套箱内使用，可处理样敏感性材料

技术参数

1、输入电压：  220 VAC 50/60Hz

2、电源输出:1600 VDC 250 W

3、电流：  150 mA .

4、溅射头：  2 英寸角度可调节溅射头

5、振动样品台：

样品台振动频率可调节：  6-33Hz

样品台直径为 50mm

建议样品量: < 500 mg

建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔体尺寸：  165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度：

①1.0E-2 Torr （采用机械泵），  可溅射 Au, Ag, Pt, Cu, Mo 等靶

②  1.0E-5 Torr  （采用分子泵） ， 可溅射 Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn 等易氧化金属靶真空 度可达到< 4.0E-6 Torr（分子泵系统抽时间 12 小时，腔体进行烘烤）

7、  CE 认证

产品规格

注意事项

警告：

1、溅射头与高压电源相连接，操作时必须佩带防护手套                                             2、溅射前必须确保靶材，溅射头，基片和样品台清洁，需要用砂纸和乙醇来清洗，  Al 或是 Ni 靶每次使用时都必须清洗和处理

注意：粉末样品必须干燥和分散