型号：

Cm/C型金刚石对顶砧压腔

描述：产品介绍：该种cell被广泛用于低温无磁高压科学研究，能够满足轴向与径向进光需求，能与低温装置配合进行光学、X-Ray、电学和同步辐射等相应的实验

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详细介绍

产品介绍：

该种cell被广泛用于低温无磁高压科学研究，能够满足轴向与径向进光需求，能与低温装置配合进行光学、X-Ray、电学和同步辐射等相应的实验。

Cm型cell技术说明：

1、材质为进口高强铍铜，热处理后硬度HRC41±1；

2、采用V350材质的该型压腔型号为C型，可以进行更高强度压力实验；

3、加工规范依据公制规格加工，配备进口公制螺丝配件；

4、加工精度要求：平行度优于±0.005，未标注公差±0.02，同轴度0.003，垂直度0.002，光洁度---底座面0.4，端面0.8；WC seat，0.005平行度，未标注公差±0.02，硬度HRC90；

5、外观亚光防锈处理，独立真空包装；

6、每套压机配件：铍铜级M3*20左右旋加压螺丝，各2枚；M1.2顶丝基米8枚，铍铜迷宫碟簧8枚，保护基米1枚，WC垫块2枚；

7、保修1年。

产品参数：

压砧支撑材料：碳化钨；

加压机制：螺栓-碟簧加压

顶部张角：30度；底部张角：34度

DAC高度：29.58mm

DAC外径：20.32mm

工作距离：<15mm

中心高度：7.62mm；中心孔径：2.0mm

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