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产品简介: 1200℃双管滑动式四通道混气 CVD 系统 OTF-1200X-4-C4LV 是专门为在金属箔表面生长薄膜 而设计的,特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究。
产品型号 | 1200℃双管滑动式四通道混气 CVD 系统 OTF-1200X-4-C4LV |
安装条件 | 本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 1、水:不需要 2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地 3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源 4、工作台: 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上 5、通风装置:需要 |
主要特点 | 1、采用高纯氧化铝保温材料,保证了的温度均匀性。 2 、内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保护炉膛洁净度。 3 、采用 PID 控制器 ,可以设置 30 段升降温程序。 4、金属箔缠绕在内管的外表面上发生 CVD 反应。 |
5、采用双管真空密封法兰,允许反应气体通过两管之间( 10mm 间隙)。 6、冷却气体直接通入内管。 |
7 、配有带 KF25 快接和波纹管的高速机械泵。 8、炉底部装有滑轨,炉体可从一端滑向另一端, 从而实现快速升温和降温。为了获得较快的 加热速度, 可以先将炉体预热, 然后滑至放置样品处; 为了获得较快的冷却速度, 可将炉 体滑至另一端,同时将冷气通入样品所在处。 | |
9、密封法兰系统采用不锈钢制作。 10 、已通过 CE 认证。 | |
技术参数 | 管式炉 1 、电源: 单相 AC 208V-240V 50Hz/60Hz 2.5KW (20A 保险丝) 2、石英管: 外管外径 Ø100mm ,内径 Ø96mm ,长 1400mm |
内管外径 Ø80mm ,内径 Ø75mm ,长 1400mm 3、加热元件: 掺钼铁铬铝合金电阻丝(表面涂有氧化锆) 4、加热区域: 440mm 5、恒温区域: 120mm (± 1℃在 400℃-1100℃) | |
6 、工作温度: 1100℃ ,连续工作 1000℃ 7、升降温速率: 20℃/min 8、控温精度:± 1℃ 9、真空度: 10-3torr (机械泵), 10-5torr (分子泵) | |
质量流量混气系统 | |
1、质子流量计: 4 路精密质子流量计,数字显示,气体流量自动控制 MFC1 范围 0-100sccm,MFC2 范围 0-200sccm,MFC3 范围 0-200sccm,MFC1 范围 0-500sccm 2、流量精度: 0.2% 3、气路: 4 路(每个气路都有一个独立的不锈钢针阀控制) 4、进出气口: 1/4"卡套 |
5、混气罐: 1 个 | |
产品规格 | 尺寸: 管式炉 550mm×380mm×520mm ,移动架 600mm×600mm×597mm 重量: 135kg |
可选配件 | 1、分子泵 2、双温区管式炉 |
3、铜箔(生长石墨烯 150mm×150mm×25µm) |
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