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产品简介: 高真空快速 CVD 系统 OTF-1200X-4-RTP-C3HV 是由 4″RTP 炉、三通道混气系统和高真空机组 组成,可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品(尺寸可达 3″ )的退火,并采用 10KW 的红外灯进行加 热,升温速度可达 120℃/s,配有 RS485 接口,可以通过控制软件在计算机上控制运行并显示温度曲线。
产品型号 | 高真空快速 CVD 系统 OTF-1200X-4-RTP-C3HV |
安装条件 | 本设备要求在海拔 1000m 以下, 温度 25℃±15℃ ,湿度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1、水:不需要 | |
2、电: AC220V 50Hz,必须有良好接地 | |
3、气:设备腔室内需充注气体,需自备气瓶气源 | |
4、工作台: 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上 5、通风装置:需要 | |
主要特点 | 1 、双层 Al2O3 纤维钢构,无需水冷或风冷。 |
2、内炉膛表面涂有进口高温氧化铝涂层,可以提高设备的加热效率及延长仪器的使用寿命。 | |
3 、PID 控制器, 可以设置 30 段升降温程序,并设有过热保护和断偶功能。 | |
4 、已通过 CE 认证。 | |
技术参数 | 1 、电源: 单相 208V-240V AC 50Hz/60Hz 10KW |
2、石英管: 外径 Ø110mm ,内径 Ø103mm ,长 380mm | |
3、加热元件: 8 根红外灯管, 灯丝长 200mm ,丝圈 Ø10mm ,灯长 300mm |
4、加热区: 300mm 5 、工作温度: 温度 1100℃ | |
6 、控温精度:±0.5℃ 7、升温速度: RT-800℃时为 50℃/s ,800℃-1000℃时为 10℃/s 8、温控仪:可控硅( SCR)PID 自动控制 9 、真空法兰: 不锈钢,带有水冷接口和针阀,双层高温 O 型圈密封,长时间在>900℃条件下 运行必须采用水冷, 循环水流量为 0.5m3/hr 10、真空度: 10-2torr (机械泵), 10-5torr (分子泵) 11 、质量流量计: 3 个, MFC1 范围0-100sccm ,MFC2 范围0-200sccm ,MFC3 范围0-500sccm, 精度 1±%FS 12、混气罐: Ø80mm×120mm | |
产品规格 | 尺寸: 炉体 760mm×330mm×530mm ,真空混气系统 600mm×600mm×597mm 重量: 炉体 45kg ,真空混气系统 75kg |
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